以CH3SiCl3为源物质,H2为载气,Ar气为稀释气体,研究了沉积温度和沉积气氛压力对SiC沉积形貌的影响.应用晶体成核-长大理论和SiC沉积热力学理论,解释了SiC沉积的各种形貌.研究表明:降低系统压力和提高沉积温度,能减小SiC在气相中形核所需的最大能量,促进形核.SiC沉积热力学随沉积条件的改变决定了SiC沉积形貌的改变.
参考文献
[1] | Starr T. J. Am. Ceram. Soc., 1989, 72 (3): 414-420. |
[2] | Fischman G S, Petuskey W T. J. Am. Ceram. Soc., 1985, 68 (4): 185-190. |
[3] | Besmann T M, Sheldonn B W, Moss T S, et al. J. Am. Ceram. Soc., 1992, 75 (10): 2899-2903. |
[4] | Yeheskel J, Agaon S, Driel M S. Mass-spectrometric study of SiC-CVD from MTS and hydrogen.Proceedings of third international aerosol conference, September 24-27, Kyoto, Japan 1990. 696-702. |
[5] | 浙江大学等四校合编.硅酸盐物理化学.北京:中国建筑工业出版社,1980.317-319. |
[6] | 胡赓祥,钱苗根主编.金属学.上海:上海科学技术出版社,1980.124-145. |
[7] | 谈慕华,黄蕴元主编.表面物理化学.北京:中国建筑工业出版社,1985.24-107. |
[8] | Xu Y, Cheng L, Zhang L, et al. J. Mater. Sci., 1999, 34: 551-555. |
[9] | Minato K, Fukuda K. J. Mater. Sci., 1988, 23: 699-706. |
[10] | Cheng D J, Shyy W J, Kuo D H, et al. J Electrochem Soc: Solid-state science and technology,December 1987. 3145-3149. |
[11] | Delle W,Nickel H著,史小罗译.热解碳.兰州:兰州碳素厂研究所,1983.37-39. |
[12] | 曲喜新,过壁君.薄膜物理.北京:电子工业出版社,1994.31-40. |
[13] | Eckerfova L著,王广阳,张福初,梁民基译.薄膜物理学.北京:科学出版社,1986.91-94 |
[14] | Sibieude F, Benezech G. J. Mater. Sci., 1988, 23: 1623-1636. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分:
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%