艺参数对 a-CNx膜沉积的影响

1.中国科学院上海硅酸盐研究所,上海,200050

2.中国科学院上海硅酸盐研究所,上海,200050

3.中国科学院上海硅酸盐研究所,上海,200050

4.中国科学院上海硅酸盐研究所,上海,200050

5.中国科学院上海硅酸盐研究所,上海,200050

基金项目: 中国科学院所长基金(SZ97-4) 中国科学院资助项目(59782006) 科技部攀登计划(07-01)

Influence of Processing Parameters on the Deposition of a-CNx Films

研究了基本工艺参数对磁控溅射制备无定形氮化碳(a-CNx)薄膜沉积的影响. 实验结果表明: N2流量的增加提高了膜的沉积速率,同时提高了膜中氮含量. 溅射功率的提高增加了沉积速率. 偏压对硬质膜的制备是一关键的工艺参数,它不仅使薄膜致密、表面光滑,而且还可以提高膜中的N含量.

[1]	Wu M L, Yang Z D, Chung Y W. Journal of Tribology 1998, 120: 179-183.
[2]	Liu A Y, Cohen M L. Science 1989, 245: 841-842.
[3]	Hammer P, Baker M A, Lenandi C, et al. J. Vac. Sci. Technol. A. 1997, 15: 107-112
[4]	Lacerda M M, Franceschini D F, Freire F L, et al. J. Vac. Sci. Tech, A. 1997, 15: 1970-1975.
[5]	Chen L L, Bhusari D M, Yang C Y, et al. Thin Solid Films, 1997, 303: 66-75.
[6]	Sjostrom H, Ivanov I, Johansson M, et al. Thin Solid Films, 1994, 246: 103-109.
[7]	Donnet C. Surface and coating Technology 1998, 100-101: 180-186.
[8]	Lacerda M M, Francechini D F, Freire L F, et. al. J. Vac. Sci. Technol. A. 1997, 15: 1970-1975.
[9]	Chan W C, Zhou B Z, Chung Y W. J. Vac. Sci. Technol. A. 1998, 16: 1907-1911.
[10]	Kaltofen R, Sebald T, Weise G, Thin Solid Films 1996, 290-291: 112-119.
[11]	李学丹,万英超,姜祥祺等. 真空沉积技术. 杭州: 浙江大学出版社, 1994, 6-7.
[12]	Musil J. Surface and Coating Technology, 1998, 100-101: 280-286.

上一张下一张

计量

作者相关

文章评分