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采用流态化CVD包硅技术制得了表面均匀包覆SiO2的Fe3O4磁粉. 对该包硅Fe3O4磁粉的氧化机理和动力学进行了研究. 结果表明,氧化反应机理符合三维球对称扩散模型,氧化反应活化能随包硅量的增加而增加,流态化CVD包硅能提高Fe3O4磁粉的抗氧化作用在于粒子表面形成了均匀的SiO2保护层.

参考文献

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