采用流态化CVD包硅技术制得了表面均匀包覆SiO2的Fe3O4磁粉. 对该包硅Fe3O4磁粉的氧化机理和动力学进行了研究. 结果表明,氧化反应机理符合三维球对称扩散模型,氧化反应活化能随包硅量的增加而增加,流态化CVD包硅能提高Fe3O4磁粉的抗氧化作用在于粒子表面形成了均匀的SiO2保护层.
参考文献
[1] | Yamaguchi K, Matsumoto K, Fujii T. J. Appl. Phys.,1990, 67: 4493-4495. |
[2] | Odenbach S. Adv Colloid InterfaceSci., 1993, 46: 263-282. |
[3] | Atarashi T, Imai T,Shimoiizaka J. J Magn Magn Mater., 1990, 85: 3-6. |
[4] | Corradi A R, Ceresa E M. IEEE Trans Magn., 1979, MAG-15 (3):1068-1072. |
[5] | 朱以华, 李春忠, 罗才卿等. 化学物理学报,1995, 8 (5): 416-423. |
[6] | 李春忠, 蔡世银, 朱以华. 化学物理学报, 1998, 11 (5): 410-415. |
[7] | 李余增. 热分析. 北京: 清华大学出版社, 1987. |
[8] | Morooka S, Okubo T, Kusakabe K. Powder Tech., 1990, 63: 105-112. |
[9] | Gallagher P K, Gyorgy E M,Bar H E. J. Chem. Phys., 1979, 2: 830-835. |
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