为了研究自离子轰击对纯锆耐蚀性的影响,用MEVVA源对纯锆样品进行了1×1015至2×1017ions/cm2的自离子轰击,注入温度为170℃,加速电压为50 kV.用X射线光电子谱(XPS)对注入表面各元素进行价态分析;用Auger电子能谱(AES)分析氧化膜厚度.三次极化测量用来评价轰击样品在1 mol/L H2SO4溶液中的耐蚀性.用掠射X射线衍射(GAXRD)分析自离子轰击造成的氧化膜相转变.研究表明:5×1016Zr ions/cm2自离子轰击样品的耐蚀性最好.对自离子轰击纯锆的腐蚀行为机理进行了讨论.
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