应用等离子体辉光监控反馈控制反应气体流量制备VO2薄膜的研究

无机材料学报, 2015, 30(11): 1228-1232. doi: 10.15541/jim20150302

应用等离子体辉光监控反馈控制反应气体流量制备VO2薄膜的研究

王孝 ^1, , 闫璐 ^2, , 李莹 ^3, , 曹韫真 ^4,

1.中国科学院上海硅酸盐研究所,特种无机涂层重点实验室,上海200050

2.中国科学院上海硅酸盐研究所,特种无机涂层重点实验室,上海200050

3.中国科学院上海硅酸盐研究所,特种无机涂层重点实验室,上海200050

4.中国科学院上海硅酸盐研究所,特种无机涂层重点实验室,上海200050

关键词：二氧化钒 , 等离子辉光监控 , 反馈控制 , 反应溅射 , 薄膜

Sputtering Deposition of VO2 Film Using Plasma Emission Monitor as Reactive Gas Flow Rate Feedback Control

Keywords： vanadium dioxide , plasma emission monitor , feedback control , reactive sputtering , thin films

采用等离子体辉光监控系统(PEM)反馈控制反应溅射过程,在石英基底上制备出单斜相VO2薄膜,并研究了反馈控制下反应溅射的等离子体相对辉光强度与氧气流量的关系.实验结果表明:在不同的反应压强(0.8 Pa、0.5 Pa、0.2 Pa)下,通过调整相对辉光强度值(REI)均可稳定获得单斜相VO2薄膜,对应的REI值分别为0.6～0.65、0.65、0.6.XRD测试结果表明VO2薄膜具有明显的(011)晶面取向,XPS测试结果表明薄膜的化学计量比为VO2.02.VO2薄膜在2.5 μm处的变温透过率测试结果显示薄膜在相变前后的透过率变化达到65％,相变温度确定为66℃.

参考文献

上一张下一张

计量

下载量()
访问量()

作者相关

在本站搜索
王孝闫璐李莹曹韫真
在百度学术搜索
王孝闫璐李莹曹韫真
在万方数据库搜索
王孝闫璐李莹曹韫真
在CNKI搜索
王孝闫璐李莹曹韫真

文章评分

您的评分：
1

0%
2

0%
3

0%
4

0%
5

0%

材料期刊网

应用等离子体辉光监控反馈控制反应气体流量制备VO2薄膜的研究

Sputtering Deposition of VO2 Film Using Plasma Emission Monitor as Reactive Gas Flow Rate Feedback Control

参考文献