退火温度对宽带脉冲压缩光栅载体金属/介质多层高反膜的影响

无机材料学报, 2014, 29(10): 1087-1092. doi: 10.15541/jim20140025

退火温度对宽带脉冲压缩光栅载体金属/介质多层高反膜的影响

吴建波 ^1, , 晋云霞 ^2, , 关贺元 ^3, , 孔钒宇 ^4, , 刘文文 ^5, , 刘世杰 ^6, , 易葵 ^7,

1.中国科学院上海光学精密机械研究所,中国科学院强激光材料重点实验室,上海201800;中国科学院大学,北京100039

2.中国科学院上海光学精密机械研究所,中国科学院强激光材料重点实验室,上海201800

3.中国科学院上海光学精密机械研究所,中国科学院强激光材料重点实验室,上海201800;中国科学院大学,北京100039

4.中国科学院上海光学精密机械研究所,中国科学院强激光材料重点实验室,上海201800;中国科学院大学,北京100039

5.中国科学院上海光学精密机械研究所,中国科学院强激光材料重点实验室,上海201800;中国科学院大学,北京100039

6.中国科学院上海光学精密机械研究所,中国科学院强激光材料重点实验室,上海201800

7.中国科学院上海光学精密机械研究所,中国科学院强激光材料重点实验室,上海201800

基金项目: National Natural Science Foundation of China(1070029,1104295) 国家自然科学基金重点项目(1070029,1104295)

关键词：金属/介质多层膜 , 脉冲压缩光栅 , 退火 , 化学清洗 , 反射率

Effect of Annealing Temperature on Metal/Dielectric Multilayers for Fabricating Broadband Pulse Compression Gratings

Keywords： metal/dielectric multilayers , pulse compression gratings , annealing , chemical cleaning , reflectivity

分别以金(Au)作为金属层材料,氧化铪(HfO2)与氧化硅(SiO2)作为高低折射率层材料,利用物理气相沉积方法制备了用于宽带脉冲压缩光栅制作的金属/介质多层高反膜,研究了退火温度对其表面均方根粗糙度、反射率及抗化学清洗破坏能力的影响.实验结果表明:退火前后样品表面均方根粗糙度变化很小;提高退火温度能提高金属/介质多层膜的抗化学清洗破坏能力,但反射率会随之下降.250℃退火10 h后金属/介质多层膜不仅可以承受住化学清洗过程,而且反射率下降也比较小,可以作为金属/介质多层膜的最佳退火工艺.

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