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液晶与显示 , 2017, 32(5): 352-356.
10.3788/YJYXS20173205.0352
垂直线不良分析与改善

张光明 1, , 白金超 2, , 曲泓铭 3, , 张益存 4, , 于凯 5,

1.北京京东方显示技术有限公司,北京,100176;
2.北京京东方显示技术有限公司,北京,100176;
3.北京京东方显示技术有限公司,北京,100176;
4.北京京东方显示技术有限公司,北京,100176;
5.北京京东方显示技术有限公司,北京,100176
针对栅极绝缘层和栅极引线接触处形成过孔倒角造成的一种垂直线不良进行分析和改善.研究气相沉积、干法刻蚀和磁控溅射对过孔倒角的影响,通过扫描电子显微镜对过孔形貌进行表征,并用成盒检测设备检测不良发生情况.实验结果表明:通过过孔刻蚀功率、气压、气体流量的变更可以消除倒角现象,垂直线不良由1.4%降为0.7%.
关键词： 垂直线不良   倒角   过孔
引用： 张光明, 白金超, 曲泓铭, 张益存, 于凯 垂直线不良分析与改善. 液晶与显示 , 2017, 32(5): 352-356. doi: 10.3788/YJYXS20173205.0352
参考文献：

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