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无机材料学报, 2017, 32(5): 517-522.
10.15541/jim20160422
三嗪对CVD石墨烯n型掺杂的研究

刘颖 1, , 戴丹 2, , 江南 3,

1.上海大学材料科学与工程学院,上海200072;中国科学院宁波材料技术与工程研究所,宁波315201;
2.中国科学院宁波材料技术与工程研究所,宁波,315201;
3.中国科学院宁波材料技术与工程研究所,宁波,315201
以化学气相沉积(CVD)制备的单层石墨烯为原料,小分子三嗪为掺杂剂,采用吸附掺杂的方式,在低温下对石墨烯实现n型掺杂.利用拉曼光谱(Raman)、X射线光电子能谱分析(XPS)、原子力显微镜(AFM)、紫外分光光度计(UV)和霍尔效应测试仪(Hall)对样品的形貌、结构及电学性能进行表征.结果表明:该方法简单安全,能够对石墨烯实现均匀的n型掺杂,掺杂石墨烯的透光率达到95％.掺杂后石墨烯的特征峰G峰和2D峰向高波数移动.掺杂180 min后,载流子浓度达到4×1012/cm2,接近掺杂前的载流子浓度,掺杂后的石墨烯在450℃的退火温度下具有可逆能力,其表面电阻在300℃以下具有较好的稳定性.
引用： 刘颖, 戴丹, 江南 三嗪对CVD石墨烯n型掺杂的研究. 无机材料学报, 2017, 32(5): 517-522. doi: 10.15541/jim20160422
参考文献：

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