无机材料学报, 2017, 32(3): 287-292.
10.15541/jim20160312
钛掺杂三氧化钨薄膜结构与电致变色性能研究

彭明栋 1, , 章俞之 2, , 宋力昕 3, , 尹小富 4, , 王盼盼 5, , 吴岭南 6, , 胡行方 7,

1.中国科学院上海硅酸盐研究所,中国科学院特种无机涂层重点实验室,上海200050;中国科学院大学,北京100049;
2.中国科学院上海硅酸盐研究所,中国科学院特种无机涂层重点实验室,上海200050;
3.中国科学院上海硅酸盐研究所,中国科学院特种无机涂层重点实验室,上海200050;
4.中国科学院上海硅酸盐研究所,中国科学院特种无机涂层重点实验室,上海200050;中国科学院大学,北京100049;
5.中国科学院上海硅酸盐研究所,中国科学院特种无机涂层重点实验室,上海200050;中国科学院大学,北京100049;
6.中国科学院上海硅酸盐研究所,中国科学院特种无机涂层重点实验室,上海200050;
7.中国科学院上海硅酸盐研究所,中国科学院特种无机涂层重点实验室,上海200050

通过射频溅射法,常温下制备了纯相WO3和Ti掺杂WO3薄膜,采用XRD、SEM、Raman、电化学工作站、紫外–可见–近红外分光光度计等对薄膜的微观结构、循环稳定性、光学性能进行了表征和分析.研究发现:钛掺杂对WO3薄膜的表面形貌和光学常数影响不明显,但使薄膜的晶化温度升高.电化学测试结果表明,Ti掺杂可以提高离子在薄膜中注入/抽出的可逆性,提高薄膜的循环稳定性,同时薄膜的响应速度和光学调制性能也得到提高,掺杂后薄膜着色态和漂白态的响应时间分别由9.8、3.5 s减小为8.4、2.7 s,因此Ti掺杂WO3薄膜具有更好的电致变色性能.
引用: 彭明栋, 章俞之, 宋力昕, 尹小富, 王盼盼, 吴岭南, 胡行方 钛掺杂三氧化钨薄膜结构与电致变色性能研究. 无机材料学报, 2017, 32(3): 287-292. doi: 10.15541/jim20160312
参考文献:

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