机械工程材料, 2017, 41(5): 59-62.
10.11973/jxgccl201705012
不同Si3N4相涂层坩埚中全熔多晶硅锭的制备及表征

李永乐 1, , 黄金亮 2, , 李飞龙 3, , 李谦 4, , 李丽华 5,

1.河南科技大学材料科学与工程学院,洛阳,471003;
2.河南科技大学材料科学与工程学院, 洛阳 471003;有色金属共性技术河南省协同创新中心, 洛阳 471023;
3.阿特斯光伏电力(洛阳)有限公司,洛阳,471023;
4.河南科技大学材料科学与工程学院,洛阳,471003;
5.河南科技大学材料科学与工程学院,洛阳,471003

以α-Si3N4和β-Si3N4粉为原料,采用免烧结工艺在坩埚内壁上分别制备了α-Si3N4涂层、β-Si3N4涂层以及二者质量比为1∶1的复合涂层,然后在这些涂层坩埚中制备得到了多晶硅铸锭,观察了涂层和硅锭的表面形貌,测试了硅锭的表面粗糙度、晶粒大小以及红区长度.结果表明:α-Si3N4涂层表面粗糙不平、起伏不均匀,对应硅锭的表面粗糙度和晶粒尺寸最大,红区最长;β-Si3N4涂层表面较平整且起伏均匀,对应硅锭的表面粗糙度最小,晶粒尺寸较小,红区最短;复合涂层的表面粗糙度介于上述二者之间,对应硅锭的晶粒尺寸最小,红区长度介于二者之间.
引用: 李永乐, 黄金亮, 李飞龙, 李谦, 李丽华 不同Si3N4相涂层坩埚中全熔多晶硅锭的制备及表征. 机械工程材料, 2017, 41(5): 59-62. doi: 10.11973/jxgccl201705012
参考文献:

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