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材料导报, 2017, 31(4): 79-82.
10.11896/j.issn.1005-023X.2017.04.018
氮氩混合比对TA2真空氮化层结构与性能的影响

祝园园 1, , 刘静 2, , 熊茫茫 3, , 杨峰 4, , 杨闯 5,

1.贵州师范大学材料与建筑工程学院,贵阳,550025;
2.贵州师范大学材料与建筑工程学院,贵阳,550025;
3.贵州师范大学材料与建筑工程学院,贵阳,550025;
4.贵州师范大学材料与建筑工程学院,贵阳,550025;
5.贵州师范大学材料与建筑工程学院,贵阳,550025
采用间歇式真空氮化技术对TA2钛合金进行渗氮处理.探究氮氩混合比对合金氮化层结构和性能的影响规律.结果表明:表面渗氮层主要由TiN和TiN0.3相组成,氮氩比越低其有效硬化层越厚,但会降低有效活性N原子的相对含量,不利于渗层的致密性.适当的氮氩混合比能在TA2表面形成氮化物,N原子有效地向纵深扩散,氮化物层与扩散层结合紧密,过渡良好,硬度梯度平缓;腐蚀电位随着氮氩比的增加呈现逐渐上升趋势,从氮氩比为1∶5时的-0.622 V提升到氮氩比为5∶1时的-0.549V,腐蚀电流和腐蚀速率则呈现出逐渐降低的趋势.
引用： 祝园园, 刘静, 熊茫茫, 杨峰, 杨闯 氮氩混合比对TA2真空氮化层结构与性能的影响. 材料导报, 2017, 31(4): 79-82. doi: 10.11896/j.issn.1005-023X.2017.04.018
参考文献：

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