新型炭材料, 2017, 32(1): 92-96.
MPCVD法同质外延生长单晶金刚石

严垒 1, , 马志斌 2, , 陈林 3, , 付秋明 4, , 吴超 5, , 高攀 6,

1.武汉工程大学 材料科学与工程学院,湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,湖北 武汉 430073;
2.武汉工程大学 材料科学与工程学院,湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,湖北 武汉 430073;
3.武汉工程大学 材料科学与工程学院,湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,湖北 武汉 430073;
4.武汉工程大学 材料科学与工程学院,湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,湖北 武汉 430073;
5.武汉工程大学 材料科学与工程学院,湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,湖北 武汉 430073;
6.武汉工程大学 材料科学与工程学院,湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,湖北 武汉 430073

利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法在高温高压(HPHT)下制备的单晶片上进行单晶金刚石同质外延生长,研究了甲烷浓度和衬底温度对金刚石生长的影响.利用扫描电子显微镜与激光拉曼光谱仪对生长前后的样品进行表征.结果表明,利用HPHT单晶片上生长时,主要为层状生长和丘状生长模式,丘状生长易出现多晶结构.降低甲烷浓度能够降低丘状生长密度,提高金刚石表面平整度;金刚石生长速率随甲烷浓度、工作气压和衬底温度的增加而提高,但过高的甲烷浓度(72%)和衬底温度(1150℃)会降低金刚石的质量.所生长出的单晶金刚石质量较为理想,衬底与生长层之间过渡比较自然,金刚石结晶度高,缺陷密度小,但随膜层增厚,非晶碳含量有所增加.
引用: 严垒, 马志斌, 陈林, 付秋明, 吴超, 高攀 MPCVD法同质外延生长单晶金刚石. 新型炭材料, 2017, 32(1): 92-96. doi: 
参考文献:
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