㒄
㐴
人工晶体学报, 2017, 46(5): 890-896.
微/纳米CVD金刚石涂层沉积工艺参数优化

许晨阳 1, , 解亚娟 2, , 邓福铭 3, , 陈立 4, , 雷青 5,

1.中国矿业大学(北京)超硬刀具材料研究所,北京,100083;
2.中国矿业大学(北京)超硬刀具材料研究所,北京,100083;
3.中国矿业大学(北京)超硬刀具材料研究所,北京,100083;
4.中国矿业大学(北京)超硬刀具材料研究所,北京 100083;信利光电股份有限公司,汕尾 516600;
5.中国矿业大学(北京)超硬刀具材料研究所,北京,100083
通过正交实验设计工艺参数,利用热丝化学气相沉积法(HFCVD)制备金刚石涂层,采用扫描电镜、洛氏硬度计、X射线衍射仪等对金刚石涂层进行性能表征,同时进行切削试验,从而确定微米层和纳米层最佳的碳源浓度、沉积气压、热丝与基体间距.结果表明:最优微米金刚石涂层沉积工艺参数为碳源浓度2%,沉积气压3 kPa,热丝/基体间距5 mm.最优纳米金刚石涂层沉积工艺参数为碳源浓度5%,沉积气压5 kPa,热丝/基体间距8 mm.
引用： 许晨阳, 解亚娟, 邓福铭, 陈立, 雷青 微/纳米CVD金刚石涂层沉积工艺参数优化. 人工晶体学报, 2017, 46(5): 890-896. doi: 
参考文献：

相似文献: