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人工晶体学报, 2017, 46(5): 845-854.
石墨烯保护层对铜电化学腐蚀行为的影响研究

马琼 1, , 章海霞 2, , 郭俊杰 3, , 黄增鑫 4, , 王永祯 5, , 许并社 6,

1.太原理工大学新材料界面科学与工程教育部重点实验室,太原,030024;
2.太原理工大学新材料界面科学与工程教育部重点实验室,太原,030024;
3.太原理工大学新材料界面科学与工程教育部重点实验室,太原,030024;
4.太原理工大学新材料界面科学与工程教育部重点实验室,太原,030024;
5.太原理工大学材料科学与工程学院,太原,030024;
6.太原理工大学新材料界面科学与工程教育部重点实验室,太原,030024
以铜箔为基底通过常压化学气相沉积法制备了高质量、连续的少层石墨烯.采用极化曲线和电化学阻抗谱对纯铜箔及石墨烯/铜样品在0.1 mol/L NaCl溶液中的抗腐蚀性能进行了研究.结果表明,石墨烯/铜样品的自腐蚀电位比纯铜箔的高0.114 V,腐蚀电流密度较纯铜箔的低1个数量级,极化电阻较纯铜箔的高4.4倍,阻抗模值比纯铜箔的提高了约1个数量级.因此,石墨烯可以作为铜表面的保护层,抑制铜在NaCl溶液中发生电化学反应,从而增强铜的抗腐蚀性能.
引用： 马琼, 章海霞, 郭俊杰, 黄增鑫, 王永祯, 许并社 石墨烯保护层对铜电化学腐蚀行为的影响研究. 人工晶体学报, 2017, 46(5): 845-854. doi: 
参考文献：

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