㒄
㐴
人工晶体学报, 2017, 46(3): 550-561.
温和氢气等离子体对薄层二硫化钼的影响研究

张学成 1, , 肖少庆 2, , 南海燕 3, , 张秀梅 4, , 闫大为 5, , 顾晓峰 6,

1.江南大学电子工程系,物联网技术应用教育部工程研究中心,无锡 214122;
2.江南大学电子工程系,物联网技术应用教育部工程研究中心,无锡 214122;
3.江南大学电子工程系,物联网技术应用教育部工程研究中心,无锡 214122;
4.江南大学电子工程系,物联网技术应用教育部工程研究中心,无锡 214122;
5.江南大学电子工程系,物联网技术应用教育部工程研究中心,无锡 214122;
6.江南大学电子工程系,物联网技术应用教育部工程研究中心,无锡 214122
薄层二硫化钼(MoS2)作为一种二维过渡金属硫属化合物(TMDC)具有较好的光学和电学特性,在目前的半导体光电功能器件领域中具有良好的应用前景.本文主要采用一种温和等离子体技术并在以氢气作为先驱气体的环境下对薄层二硫化钼进行处理,研究处理前后以及后续退火后薄层二硫化钼的光学与电学特性的变化.研究表明,氢原子在温和等离子体的作用下会渗入薄层MoS2,从而改变原始的晶格结构并影响MoS2的晶格振动,导致荧光淬灭,同时使薄层MoS2趋于本征或者p型.后续退火会引起极少数MoS2分子与氢原子的重新键合,从而改变其带隙.
引用： 张学成, 肖少庆, 南海燕, 张秀梅, 闫大为, 顾晓峰 温和氢气等离子体对薄层二硫化钼的影响研究. 人工晶体学报, 2017, 46(3): 550-561. doi: 
参考文献：

相似文献: