㒄
㐴
材料保护, 2017, 50(4): 1-14.
烧结NdFeB磁体表面沉积Ni膜及其耐腐蚀性

田忆兰 1, , 杨旖旎 2, , 唐春梅 3, , 刘仲武 4,

1.华南理工大学材料科学与工程学院,广东广州,510641;
2.华南理工大学材料科学与工程学院,广东广州,510641;
3.华南理工大学材料科学与工程学院,广东广州,510641;
4.华南理工大学材料科学与工程学院,广东广州,510641
为改善烧结钕铁硼(NdFeB)磁体的耐腐蚀性能,在磁体表面用磁控溅射方法制备了Ni薄膜.利用扫描电子显微镜(SEM)观察了Ni薄膜的组织形貌,利用电化学测试、中性盐雾试验(NSS)测试了镀膜样品的耐腐蚀性能,研究了溅射功率和负偏压对Ni薄膜组织结构、电化学性能和中性盐雾环境下耐腐蚀性能的影响.结果表明:Ni薄膜的厚度和致密性是影响其耐腐蚀性能的关键因素;随溅射功率增大,Ni薄膜厚度增大,但晶粒尺寸变大、致密性降低,耐腐蚀性能先升高后降低;加负偏压后,Ni薄膜厚度有所减小,但膜层表面更加光滑、组织更加致密均匀,因此镀膜样品耐腐蚀性能有所提高;在溅射功率为100～120 W、负偏压为150 V条件下制备的磁控溅射镀Ni样品具有最好的耐腐蚀性能.
引用： 田忆兰, 杨旖旎, 唐春梅, 刘仲武 烧结NdFeB磁体表面沉积Ni膜及其耐腐蚀性. 材料保护, 2017, 50(4): 1-14. doi: 
参考文献：

相似文献: