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兵器材料科学与工程 , 2016, 39(3): 83-85.
磁场强度对磁场-电沉积Ni-TiN镀层的影响

王金东 1, , 赵岩 2, , 朱砚葛 3, , 夏法锋 4, , 高媛媛 5, , 曹阳 6,

1.东北石油大学机械科学与工程学院,黑龙江大庆,163318;
2.东北石油大学机械科学与工程学院,黑龙江大庆,163318;
3.东北石油大学电气信息工程学院,黑龙江大庆,163318;
4.东北石油大学机械科学与工程学院,黑龙江大庆,163318;
5.中国石油管道大庆输油气分公司,黑龙江大庆,163458;
6.中国石油管道大庆输油气分公司,黑龙江大庆,163458
采用磁场-电沉积方法在40Cr表面制备Ni-TiN镀层,利用显微硬度计、扫描电镜、EDS能谱仪等仪器研究磁场强度对Ni-TiN镀层的显微硬度、表面形貌、TiN粒子复合量及镀液电流效率的影响.结果表明:当磁场强度为0.9T时,镀层显微硬度达到最大值,为730HV;TiN粒子复合量的质量分数达到最大值,为3.6％;电流效率达到最小值,为73％.SEM分析表明,当磁场强度为0.5 T时,Ni-TiN镀层的晶粒尺寸较大,表面较粗糙;当磁场强度为0.9 T时,镀层表面较平整,晶粒显著细化.
引用： 王金东, 赵岩, 朱砚葛, 夏法锋, 高媛媛, 曹阳 磁场强度对磁场-电沉积Ni-TiN镀层的影响. 兵器材料科学与工程 , 2016, 39(3): 83-85. doi: 
参考文献：

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