王琦
,
刘洋
,
王朝辉
,
侯龙
,
鲍杰
,
苏晓斌
,
李霞
原子核物理评论
doi:10.11804/NuclPhysRev.34.02.195
瞬发γ射线法测量(n,xnγ)反应截面实验中,在线的实验本底对测量结果影响显著,是影响测量结果的关键因素.为了达到降低在线实验本底一个量级的目标,通过蒙特卡罗模拟程序给出了屏蔽体和准直器的改进方案,最终选取的屏蔽方案:在原有屏蔽体上加厚30 cm(C2H4)n+9 cmPb,原屏蔽墙加厚54 cm重混凝土,再在屏蔽体和屏蔽墙上共同加厚2 cm厚的铅(Pb);准直孔开孔形状在圆柱形、圆锥形和对称双锥形这三种方案中准直效果和能量单一性方面对称双锥形准直孔最好.在屏蔽体改造完成后,利用尺寸为φ5.08 cm×5.08 cm型液体闪烁体探测器(BC501)测量了改造后距准直孔右方径向距离70 cm处透射出来的中子和γ射线的相对强度,在扣除无束流天然本底后,有束流的中子本底降低了7.75倍,γ本底降低了38.5倍,改造效果达到了测量要求.
关键词:
(n,xnγ)反应截面
,
屏蔽
,
本底
,
准直器
,
模拟
邓文
,
阮向东
,
黄宇阳
,
周银娥
,
祝莹莹
,
罗里熊
金属学报
doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2005.01.007
测量了Al,Ti,V,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Cu,Zn,Ga等金属的正电子湮没辐射Doppler展宽谱.采用双探头符合技术,可大幅度地降低谱线的本底,并获得正电子与原子内层电子湮没对谱线的贡献.实验结果表明:谱线的本底随样品与高纯Ge探头之间距离的增加而减小;Ni的商谱(以单晶Al为参考)的谱峰随谱线本底的降低而升高;元素周期表中第四周期的Ti,V,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Cu金属的商谱的谱峰随原子的3d电子数目的增多而升高.
关键词:
正电子湮没
,
符合技术
,
本底
,
3d电子
霍红英
,
邹敏
,
马光强
,
常会
表面技术
采用直流磁控溅射方法在平板玻璃基体表面沉积AZO薄膜,研究了本底真空度对薄膜厚度、方块电阻以及在300～1100 nm波长范围内透过率的影响.结果表明:薄膜的方块电阻和透过率随本底真空度的提高而降低,厚度随本底真空度的提高而增加；本底真空度较低时,其变化对薄膜的厚度、方块电阻和透过率的影响较大,随着本底真空度的增加,影响程度逐渐降低.
关键词:
磁控溅射
,
AZO薄膜
,
本底真空度
赵奉奎
,
王爱民
冶金分析
doi:10.13228/j.b0yuan.issn1000-7571.140124
在X射线荧光光谱(XRF)分析中,本底能否有效扣除对分析结果的精确性有很大影响.针对实数小波变换系数在奇点附近有正负振荡及缺乏平移不变性等问题,提出了一种使用近似解析的复数小波扣除本底的新方法.该复数小波变换通过两个实数小波来实现,所以方法兼有实数小波局部时频分析和多分辨率等优点.采用复数小波分解光谱后,利用低频逼近重构信号得到本底.为了检验其有效性,对一个模拟的光谱和实验测得的光谱进行了本底扣除,并通过分析比较了方法对特征峰净峰面积和峰位置的影响,实验结果显示该复数小波得到的本底比一般实数小波的本底更为精确,证明了方法可以有效扣除本底并能保持峰面积等有效信号不变.
关键词:
复数小波
,
本底扣除
,
X射线荧光光谱
郭巧琴
,
李建平
,
蒋百灵
,
李洪涛
功能材料
采用非平衡磁控溅射在GW93镁合金表面制备了镀C/Cr复合镀层,分析了不同本底真空度下在GW93镁合金表面进行非平衡磁控溅射镀C/Cr复合镀层的硬度、耐蚀性、膜基结合力,摩擦系数等.结果表明,非平衡磁控溅射镀C/Cr复合膜层,本底真空度在8.8×10-3～1.0×10-1Pa范围内,镀层硬度与本底真空度成反比,当其为8.8×10-3Pa时,镀层硬度最低为1397Hv0.05,镀层使基体自腐蚀电位提高到-0.940V,显著改善镁合金的耐蚀性,结合力最高可达8.11N,镀层的摩擦系数最低达到0.05.本底真空度对C/Cr复合镀层相组成没有显著影响,不同真空度下的C/Cr复合镀层均以非晶为主.
关键词:
C/Cr复合镀层
,
硬度
,
耐蚀性
,
结合力
,
摩擦系数
郭洪生
,
郭骐语
,
杨高照
,
朱学彬
,
胡青元
原子核物理评论
doi:10.11804/NuclPhysRev.32.03.318
在国内首次采用高强度窄脉冲DPF中子源,采用直照法测量零功率堆瞬发中子时间常数α.由于外中子源本底太强,导致直照中子和散射中子产生的干扰信号比测量信号高三个量级.为有效地抑制外本底,针对不同能量的干扰中子,采用不同材料进行屏蔽.通过数值模拟的方法优化辐射屏蔽体设计,在屏蔽中子的同时也对散射γ进行了有效屏蔽,使测量信噪比达到了7.5:1,并与实验结果相符合,实验中所采用的新型无机晶体也有效抑制了中子本底.
关键词:
瞬发中子时间常数
,
非期望中子本底
,
数值模拟
,
信噪比
,
零功率堆
刘旸
,
张国同
,
崔新军
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2015.05.019
目的：提高真空镀膜机镀膜时薄膜的抗激光能力，研究镀膜机箱体内本底真空度和残余气体对激光薄膜光学性能的影响程度。方法借用一台较高配置的真空镀膜机，为了方便定性和定量的研究，可预先有针对性地设定不同的本底真空度，同时配合不同的残余气体等各种情况，来制备激光薄膜。通过对各种激光薄膜的检测，分别研究不同的设定条件对制备激光薄膜的具体影响。结果油汽在分压强1.6×10-3 Pa时对激光薄膜的抗激光损伤阀值最高；水汽的分压强越大，对激光薄膜的抗激光损伤阀值最小；当氧汽分压达到1.5×10-2 Pa时，抗激光损伤阀值开始急剧变小；在压强小于2.0×10-4 Pa的范围内，薄膜的抗激光损伤阀值随本底真空度的增大而增大；压强大于5.0×10-5 Pa时，薄膜的抗激光损伤阀值逐渐减小。结论提高真空设备的本底真空度，降低真空系统中残余气体的数量、成分及含量，尤其是H2 O和O2是提高激光薄膜光学性能关键。
关键词:
激光薄膜
,
本底真空度
,
抗激光阀值
,
真空设备
薛树斌
,
蹇令兰
,
李跃林
,
林松柏
黄金
doi:10.11792/hj20140117
描述了西藏甲玛矿区甲玛沟(东沟)牛马塘支流含重金属离子酸性水的状况,分析了河流本底水质超标的成因,叙述了该治理项目的试验和设计情况,介绍了该治理项目实施后的生产技术指标,阐述了该研究项目的效果和意义.
关键词:
甲玛矿区
,
含重金属离子酸性水
,
污染
,
治理
,
环境保护
胡东平
,
王小龙
,
唐俐
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2016.07.024
目的：研究本底真空对溅射镍铬合金薄膜性能的影响。方法在不同溅射时间下制备了不同厚度的镍铬合金薄膜，采用4、6、8、10 h不同的抽真空时间制备薄膜样品，并在空气、氮气及真空气氛中，对同一工艺条件下制备的镍铬合金薄膜样品分别在300、400、500℃下进行热处理，所有样品分别测试方块电阻。结果不同厚度的镍铬合金薄膜的方块电阻与薄膜厚度之间存在非线性关系，样品的方块电阻随着溅射前抽真空时间的增加而降低。在真空和空气中进行热处理的薄膜的方块电阻变化规律一致，而在氮气中的则相反。结论本底真空残留气体对镍铬合金薄膜的氧化是引起薄膜电阻率增大的主要原因，即射频磁控溅射镍铬合金薄膜被氧化而使电阻率增大，随着溅射时间的增加，残留气体影响减小，导致电阻率降低。前期抽真空时间大于9 h，靶材溅射清洗时间大于110 min时，制备的镍铬合金薄膜电阻率才趋于稳定。
关键词:
镍铬合金薄膜
,
磁控溅射
,
本底真空
,
电阻率
,
热处理
李洪涛
,
蒋百灵
,
陈迪春
,
曹政
,
蔡敏利
,
苗启林
功能材料
采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术于不同本底真空度下制备了Cr/C镀层.利用TEM、划痕仪分析了不同真空度下镀层微观截面形貌与结合强度的变化.结果表明,随本底真空度的降低,Cr/C镀层中物理混合界面层和Cr金属打底层的厚度显著减小;镀层结合强度随本底真空度的降低显著下降,物理混合界面层、Cr金属打底层厚度的减小以及镀层表面孔洞等缺陷增多、致密度变差等共同导致了其结合强度的下降.
关键词:
本底真空度
,
物理混合界面层
,
Cr金属打底层
,
结合强度
