宋红
,
耿新华
,
周作祥
,
王军红
,
张德坤
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2005.04.021
采用对靶直流磁控溅射制备的铁镍氧化物薄膜,其电特性、电化学特性和结构与反应溅射过程中氧氩比之间有很大的关系.实验结果表明氧气流量较高时,材料的导电性较好,但过电位较大;反之氧流量较低时,电阻率较大,过电位较小,表面较粗糙.
关键词:
铁镍氧化物
,
对靶磁控溅射
,
氧含量
,
过电位
于翔
,
王成彪
,
刘阳
,
于德洋
金属学报
利用新型中频对靶磁控溅射技术合成了一系列TiN/Ti多层膜. 考察了不同Ti间隔层
对多层膜硬度和结合力的影响, 分析了膜表面大颗粒和坑的形成机理; 利用正交
实验法和方差分析探讨了靶电流、气体压力和基体偏压对薄膜表面缺陷密度的影响,
对工艺参数进行了优化. 结果表明, 靶电流对缺陷密度的影响最大, 气体压力次之,
基体偏压对缺陷密度影响最小; 当靶电流I=20 A、气体压力p (Ar+N 2)=0.31 Pa、基体偏压V bias=-60 - -300 V和Ti间隔层厚度x=0.12 um时, 制备出硬度HV 0.2 N =2250、膜基间结合力(临界载荷)L c=48 N和表面缺陷密度ρs=58 mm -2的高质量TiN/Ti多层膜.
关键词:
TiN/Ti多层膜
,
magnetron sputtering
,
mechanical property
于翔
,
王成彪
,
刘阳
,
于德洋
金属学报
doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2006.06.018
利用新型中频对靶磁控溅射技术合成了一系列TiN/Ti多层膜.考察了不同Ti间隔层对多层膜硬度和结合力的影响,分析了膜表面大颗粒和坑的形成机理;利用正交实验法和方差分析探讨了靶电流、气体压力和基体偏压对薄膜表面缺陷密度的影响,对工艺参数进行了优化.结果表明,靶电流对缺陷密度的影响最大,气体压力次之,基体偏压对缺陷密度影响最小;当靶电流I=20 A、气体压力p(Ar+N2)=0.31 Pa、基体偏压Vbias=-160--300 V和Ti间隔层厚度x=0.12 μm时,制备出硬度HV0.2 N=2250、膜基间结合力(临界载荷)Lc=48 N和表面缺陷密度ρs=58 mm-2的高质量TiN/Ti多层膜.
关键词:
TiN/Ti多层膜
,
磁控溅射
,
力学性能
,
表面缺陷
李微
,
孙云
,
何青
,
刘芳芳
,
李凤岩
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2006.04.021
本文以ZnO:Al(ZAO)陶瓷为靶材,采用孪生对靶直流磁控溅射工艺在玻璃衬底上制备出高质量的铝掺杂氧化锌透明导电膜,研究了该薄膜的结构、光电及力学特性.采用孪生对靶制备ZAO薄膜可使样品避开等离子体直接轰击,减少基底薄膜的损伤.制备的薄膜具有结晶程度高、电阻率低、迁移率高等优点.ZAO薄膜的最低电阻率达到了4.47×10-4Ω·cm,在可见光区的平均透过率达到85%以上,非常适合做为铜铟硒(CIS)薄膜太阳电池窗口层.
关键词:
孪生对靶
,
磁控溅射
,
ZnO:Al
刘衡平
,
徐均琪
,
严一心
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2009.01.003
利用非平衡磁控溅射(UBMS)技术在硅基片上制备了无氢碳膜,并采用Raman光谱、X射线衍射、傅立叶变换光谱等手段对不同靶电流下沉积的薄膜的微观结构、沉积速率、粗糙度、表面接触角及红外透过率进行了研究.试验结果表明:随着靶电流的增大,薄膜的沉积速率增大,薄膜中sp3键含量增加,薄膜表面接触角增大,红外透过率增大;而薄膜的粗糙度随靶电流增加而减小.靶电流是影响非平衡磁控溅射制备无氢碳膜结构与性能的1个主要因素.
关键词:
非平衡磁控溅射
,
类金刚石
,
性能
,
结构
高方圆
,
李光
,
夏原
材料热处理学报
针对磁控溅射阴极靶磁场分布难以进行定量评价的问题,提出以磁场水平分量B:的平行率R,为量化指标,对磁场分布状态进行评价的新方法;采用有限元方法,模拟分析了磁控溅射阴极靶结构参数对磁场分布的影响规律,并利用Rk对结构参数的合理性进行了验证.结果表明,量化指标Rk可以有效地评价磁场分布的优劣,能够为磁场模拟及分析提供基础的科学判据.
关键词:
磁控溅射
,
磁场分布
,
结构参数
,
平行率
郭巧琴
,
李建平
,
郭永春
稀有金属材料与工程
采用非平衡磁控溅射离子镀技术,当碳靶电流在0.2～.0.8 A范围,在AlZn4.5Mg轴承合金和单晶硅Si (100)表面制备Cp/AlSn复合镀层.通过X射线衍射(XRD),扫描电子显微镜(SEM)以及X射线光电子能谱(XPS)分别对复合镀层的相组成,微观形貌及化学态进行表征.结果表明:复合镀层为等轴晶结构;其相组成主要为均匀分布的铝、锡和碳3种相;X射线光电子能谱分析表明,在Cp/AlSn复合镀层中,铝和锡2种元素主要以单质形态存在,碳元素以sp2和sp32种杂化形式存在,其中以sp2杂化为主.
关键词:
Cp/AlSn镀层
,
磁控溅射
,
显微结构
刘增机
,
纪全
,
张浴晖
,
夏延致
,
王凤军
功能材料
采用射频磁控溅射法,以聚四氟乙烯(PT-FE)为靶,氩气为载气,在再生纤维素基底上制备了氟碳膜.用原子力显微镜(AFM)、X射线光电子能谱(XPS)和静态接触角测试仪对氟碳膜的表面形貌、表面结构和表面性能进行了研究.结果表明,该法制得的氟碳膜是由纳米粒子组成的岛状结构,岛的表面起伏不平.这种氟碳膜由-CF3-CF2-、-CF-和-C-4个组分构成,靶基距从30mm增加到813mm时,氟碳膜的F/C从0.551减小到0.427,呈逐渐减小的趋势.随着靶基距的增大,接触角从107°逐渐减小到75°,减小靶基距有利于提高氟碳膜的疏水性能.
关键词:
射频磁控溅射
,
靶基距
,
AFM
,
XPS
,
接触角
汤勇
,
马博
,
刘彬
,
袁伟
,
余彬海
,
陆龙生
稀有金属材料与工程
采用磁控溅射工艺在WC-8Co硬质合金基体表面制备了一层厚度分别为2.5、3和3.5 μm的TiAlN涂层,并制备了不同Ti、Al比例的TiAlN涂层,利用摩擦磨损机考察了涂层的承载能力和摩擦学性能,通过扫描电子显微镜观察了磨损试件的表面形貌,通过摩擦系数和显微组织的演变来评价不同成分和不同厚度TiAlN涂层的摩擦学性能.结果表明,随着涂层厚度的增加,涂层的摩擦系数降低,涂层更不易被磨穿,表明在一定范围内增加涂层厚度有利于提高涂层的耐磨损性能;涂层的成分发生改变时,由于Ti、Al元素的共同作用,呈现不同的摩擦性能,当Ti/Al比为50∶50时,涂层的耐磨性最好.
关键词:
耐磨性
,
涂层
,
TiAlN
